技術文章
Technical articles
站內搜索:
更新時間:2025-11-21
點擊次數:64
真空鍍膜(包括 PVD 物理氣相沉積、CVD 化學氣相沉積、ALD 原子層沉積等)是真空技術與材料科學的核心結合領域,真空閥門作為真空系統的 “流量與隔離控制核心",直接影響鍍膜過程的真空度穩定性、膜層純度、生產效率及設備壽命。以下從鍍膜工藝全流程出發,詳細拆解真空閥門的應用場景、選型要求及典型配置,精準匹配行業實際需求:
一、真空鍍膜行業對真空閥門的核心技術要求
真空鍍膜需在 高真空(10?3~10?? Pa)/ 超高真空(10??~10?? Pa) 環境中進行,且對氣體純度、顆粒污染、溫度兼容性要求嚴苛,因此閥門需滿足:
1.優秀的密封性能:漏率≤10?12 Pa?m3/s(超高真空場景需≤10?1? Pa?m3/s),避免空氣、水汽侵入導致膜層氧化、夾雜;
2.低放氣與高潔凈度:閥體材質需低蒸氣壓(如 316L 不銹鋼拋光、鈦合金),密封件選用氟橡膠(Viton)、全氟橡膠(Kalrez)或金屬密封,減少自身氣體釋放(H?O、CO?等),顆粒產生量≤1 顆 /m3(粒徑≥0.1μm);
3.流量調節精準性:部分場景需線性流量控制(如反應氣體通入、真空梯度調節),流導系數(C)需適配抽氣系統(通常 C=100~1000 L/s);
4.耐溫與耐腐蝕性:適配鍍膜工藝的加熱環境(≤400℃,部分 ALD 工藝達 800℃),且能耐受濺射離子、反應氣體(如 CF?、O?、NH?)的腐蝕;
5.高可靠性與長壽命:滿足產線連續運行需求,開關壽命≥10?次(真空隔離閥)、調節壽命≥10?次(流量控制閥)。
二、真空鍍膜全流程閥門應用場景與選型
1. 真空系統抽氣與腔室隔離環節
⑴核心作用:實現鍍膜腔室從大氣壓到目標真空的抽氣切換,以及腔室與抽氣系統的隔離保護。
⑵典型閥門類型:
l真空插板閥(閘閥):用于鍍膜腔室與分子泵 / 擴散泵之間的主隔離,特點是流導大(C≥500 L/s)、密封可靠,推薦型號:Pfeiffer DUO 65 M(超高真空型,金屬密封,漏率≤10?13 Pa?m3/s)、CKD KV 系列(氣動驅動,適合快速隔離);
l蝶閥:適配粗抽 / 預抽環節(從大氣壓降至 10?3 Pa),結構緊湊、開關速度快(≤1 秒),推薦選用無油潤滑設計(如 Busch DVM 系列),避免油污污染腔室;
l超高真空擋板閥:用于 ALD、高精度 PVD 等超高真空場景,采用磁流體密封或金屬波紋管密封,確保無泄漏,典型應用:腔室與離子泵的連接管路。
2. 工藝氣體控制環節
⑴核心作用:精準控制反應氣體(CVD)、濺射氣體(PVD)、載氣的通入量與比例,直接影響膜層成分、厚度均勻性。
⑵典型閥門類型:
l質量流量控制器(MFC)配套閥門:MFC 內置的針閥或球閥,需具備高精度流量調節能力(重復性≤±0.5% F.S.),耐腐蝕性強,適配氣體:Ar、N?、O?、CF?、SiH?等,推薦品牌:MKS 1179A 系列、Horiba STEC SEC-Z500 系列;
l氣動薄膜閥:用于反應氣體主路開關,采用耐腐蝕密封(如哈氏合金閥座),避免氣體腐蝕導致密封失效,適合 CVD 工藝的腐蝕性氣體回路;
l角座閥:適配濺射氣體的快速通斷,響應時間≤50ms,確保鍍膜過程中氣體壓力穩定。
3. 鍍膜腔室與傳輸系統連接環節
⑴核心作用:實現晶圓 / 工件在真空傳輸腔(Load Lock)與鍍膜腔之間的隔離與傳輸通道切換,需零顆粒污染。
⑵典型閥門類型:
l真空隔離閥(滑閥):采用平移式密封結構,無摩擦顆粒產生,推薦型號:SMC XLG 系列(潔凈室 Class 1 級,適合半導體鍍膜設備)、Nor-Cal AV 系列(金屬密封,超高真空兼容);
l快速真空擋板閥:用于 Load Lock 腔室的大氣 / 真空切換,抽氣時間≤30 秒(從大氣壓至 10?3 Pa),搭配壓力傳感器實現自動控制,提升生產效率。
4. 尾氣處理與輔助系統環節
⑴核心作用:將鍍膜過程中產生的有毒有害尾氣(如 Cl?、HF、金屬蒸氣)安全導出至處理設備,避免泄漏污染。
⑵典型閥門類型:
l耐腐蝕真空閥:閥體采用哈氏合金、蒙乃爾合金,密封件選用全氟橡膠,推薦型號:Swagelok SS-6P4 系列(針閥,適配腐蝕性氣體)、Celerity CV 系列(球閥,耐溫≤200℃);
l安全閥 / 泄壓閥:用于腔室壓力過載保護,設定壓力精度 ±5%,避免腔室因壓力突變損壞,推薦選用彈簧式結構(如 Pfeiffer PR 400)。
三、不同鍍膜工藝的閥門配置差異
鍍膜工藝 | 核心真空需求 | 關鍵閥門類型 | 選型重點 |
PVD(濺射 / 蒸發) | 高真空(10?3~10?? Pa),濺射氣體(Ar)通斷快速 | 真空插板閥、角座閥、MFC 配套針閥 | 流導大、響應快、無油污染 |
CVD(化學氣相沉積) | 中高真空(10?2~10?? Pa),腐蝕氣體(CF?、SiH?) | 耐腐蝕氣動薄膜閥、質量流量控制閥 | 耐腐蝕性、流量精準度 |
ALD(原子層沉積) | 超高真空(10??~10?? Pa),氣體脈沖式通入 | 超高真空擋板閥、高精度 MFC | 超低漏率、脈沖響應快(≤20ms) |
真空鍍膜機(民用 / 工業) | 高真空(10?3~10?? Pa),兼顧成本與可靠性 | 蝶閥、氣動插板閥、普通 MFC | 性價比高、維護便捷 |
四、行業應用趨勢與選型建議
1.超高真空化趨勢:隨著 ALD、高精度 PVD 等工藝普及,超高真空閥門(漏率≤10?1? Pa?m3/s)的應用占比提升,優先選用金屬密封(如銅墊、鎳墊)替代橡膠密封;
2.智能化集成:閥門需集成位置傳感器、壓力反饋模塊,支持 PLC 聯動控制,實現真空度 - 流量 - 閥門狀態的閉環調節,適配自動化產線;
3.定制化需求:針對高溫鍍膜(如>400℃),需選用耐高溫閥門(如 Inconel 閥體、金屬波紋管密封),避免密封件老化;
4.成本控制:民用鍍膜設備可選用性價比高的橡膠密封閥門(如氟橡膠),半導體級鍍膜設備需優先保障潔凈度與耐腐蝕性,選用金屬密封或全氟橡膠密封閥門。
若需針對具體鍍膜工藝(如某型號 PVD 設備、ALD 腔體)或介質(如特定腐蝕氣體)推薦閥門型號及品牌配置,可補充說明需求,將提供更精準的技術方案!
杭州域勢科技有限公司專注于為工業及科研客戶提供流量、壓力、真空檢測及控制相關的技術服務及解決方案,公司代理經銷美國ALICAT、瑞士Vogtlin、美國MKS、日本EBARA等品牌,結合代理的產品為客戶提供優質的流量及壓力監控解決方案,旨在提高客戶的研發及生產效率、改進客戶制造工藝、推動客戶科研及創新進度。